반도체 공정/Etching

Etching 공정 역사

yoong semi 2022. 10. 26. 07:18

1. Wet Etching

 

Anisotropy 원함

 

2. Plasma Etching

 

plasma potential 키우기 원함

 

3. Parallel Plate Plasma Etching

 

DC self-bias

 

4. Reactive Ion Ethcing

 

plasma density 원함

 

5. Magnetically Enhanced RIE

 

high density plasma (1011/cm3)원함

 

6. ECR, Helical, TCP, DPS, Helicon,HRe-

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