Etching profile
Isotropic etching : 등방성 식각
Anisotropic etching : 비등방성 식각
공정이 미세화됨에 따라 거의 다 비등방성 식각을 원하고 있습니다.
Etching profile은 Etch rate와 엮어서 말 할 수도 있습니다.
모든 방향으로 E/R가 같다면 등방성 식각.
방향에 따라서 E/R이 다르다면 비등방성 식각.
Etching method
Wet etch : 용액으로
Dry etch : Gas로(Plasma로)
요새 거의 dry etch입니다.
이유는 비등방성 식각을 원하기 때문입니다.
wet etching은 용액을 이용하기 때문에 등방성 식각이 나오기 때문이죠.
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