plasma doping

플라즈마 도핑은 ion-implantation의 결정격자 파괴를 극복하고자 만들어진 도핑 방법입니다.

또한 균일한 도핑이 가능합니다.

그러나 단점이 있어서 개발 중에 있습니다.

(하지만 거의 자료가 없는 걸 보아 잘 쓰지 않는 도핑 같습니다.)

(단점이 무엇인지도 찾아볼 수 없어 생각해보니 아마 도핑해주는 힘이 약해서 그렇지 않을까 싶습니다.)

 

아무래도 직접 쏘는 것이 아니라서 격자 구조를 많이 해치지 않죠.

하지만 격자 구조를 많이 해치지 않는다는 것은 그만큼 넣어주는 힘이 약하다는 것이 되겠죠.

또한 이 역시 격자 구조를 완전히 안해치지 않기 때문에 결국 열을 가해주여야 합니다.