도핑공정의 대표주자
Diffusion 공정과 Ion implantation을 비교해보겠습니다.
| Diffusion | Ion implantation | |
| 도핑 방법 | 확산을 이용한 Two step process(Predeposition + Drive-in) | Ion implantation + Annealing |
| 장점 | 확산 방정식을 이용한 정확한 깊이 측정 Throughput 높음(Batch process) |
Lateral diffusion 감소 Abrupt juncion 형성 가능 정확한 Profile 형성 저농도 doping 형성 가능(저항 형성) 저온 공정 |
| 단점 | 긴 drive-in 시간 필요 Lateral diffusion 큼 고온 공정 고체 용해도에 의해 제한 받음 |
damage 발생 - Annealing 필요 비싼 설비 Throughput 낮음(Single process) 위험한 설비 |
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