반도체 공정/DNI & Oxidation

확산을 이용한 공정 분류

yoong semi 2023. 2. 8. 10:54

확산과 확산 공정의 차이

확산과 확산 공정은 다릅니다.

확산은 현상인 것이고 이를 이용한 공정은

DNI와 Oxidation 공정이 있습니다.

확산을 이용한 반도체 공정 구조도

 

 

DNI (diffusion & Ion implantation)

DNI 공정은 도핑을 해주는 공정입니다.

확산 공정과 이온주입공정을 합쳐서 DNI 공정이라고 말합니다.

두 공정 모두 확산을 통해 도핑을 해줍니다.

 

도핑을 해주는 방법으로 플라즈마 도핑도 있습니다.

 

 

 

 

Oxidation 공정 (산화 공정)

SiO2를 성장하여 절연막을 형성하는 공정입니다.

산화 공정도 확산을 이용한 공정입니다.

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