반도체에서 가장 많이 쓰이는 물질
Si
실리콘 원자 사이의 간격이 1.17Å 정도이다.
SiO2 : 부도체, 절연막
Si3N4 : 부도체, 절연막 (sio2와 si3n4 비교 필요)
Al : 금속 배선
W : 금속 배선
Cu : 금속배선
텅스텐이나 알루미늄 보다 요새 구리로 넘어오는 추세이다.
선폭이 줄어듦 → 저항이 높아짐 → resistivity가 낮은 물질 필요 → Cu 사용
→ damascene 공정이 추가 → CMP 공정 중요도 상승 (포토의 DOF 때문)
Organic Material (PR) : C H O N S
Ge, GaAs는 매우 비싸다. 항공이나 우주에 쓰인다.
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